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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]溅射靶-CN02815905.5无效
发明人：维尔莫特·德博谢尔;伊尔德·德尔吕;若昂·王德施特雷腾 -专利权人：贝克特股份有限公司
申请日： 2002-07-10 - 公布日： 2004-10-27 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明涉及一种溅射靶，更具体而言涉及一种锌溅射靶。溅射靶包括：一溅射靶载体，其具有一外表面；以及一种溅射靶材料，其被制在所述外表面上。靶材的相对密度高于金属或金属合金理论密度的92％。另外，本发明还涉及一种溅射靶制造方法。
溅射

[发明专利]溅射靶-CN201480059995.7在审
发明人：石田新太郎;长谷川淳 -专利权人：三井金属矿业株式会社
申请日： 2014-10-21 - 公布日： 2016-06-22 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明涉及一种溅射靶。所述溅射靶为由In、Ga以及Zn的氧化物组成的溅射靶，并且为在80℃的质量百分比28％盐酸中，相对于该盐酸而将质量百分比40％的量的所述溅射靶浸渍了24小时之时所获得的溶解残渣的、相对于所述浸渍的溅射靶的质量比为质量百分比0.5％以下的溅射靶。本发明的由In、Ga以及Zn的氧化物组成的溅射靶在溅射时电弧或结块的产生较少，并且能够由该溅射靶获得成品率较好的氧化物半导体膜。
溅射

[发明专利]溅射靶-CN201180056488.4有效
发明人：池田真 -专利权人：三井金属矿业株式会社
申请日： 2011-11-28 - 公布日： 2013-07-31 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明为一种溅射靶，其特征在于，含有Ag和C。本发明的溅射靶在Fe、Pt及C的基础上还含有Ag。由于含有Ag，从而本发明的溅射靶成为高密度。其结果为，能够减少在实施溅射时将溅射靶设置在真空气氛中之际，从溅射靶释放出的气体的量，从而能够提高通过实施溅射而形成的薄膜的特性。此外，本发明的溅射靶即使在通过低温烧结而被制造的情况下也成为高密度。
溅射

[发明专利]溅射靶-CN201510634570.0有效
发明人：馆野谕 -专利权人： JX金属株式会社
申请日： 2015-09-29 - 公布日： 2018-01-02 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明涉及溅射靶，其目的之一在于提供一种可防止溅射靶材的开裂且稳定地保持在基体材料上的溅射靶。本发明提供的溅射靶具有由金属形成的基体材料、设置于基体材料的一面的溅射靶材、设置于基体材料与上述溅射靶材之间的接合材料，接合材料至少包含第一金属元素和第二金属元素，相对于第一金属元素，第二金属元素以10ppm
溅射

[发明专利]溅射靶-CN201880091597.1在审
发明人：古谷祐树 -专利权人： JX金属株式会社
申请日： 2018-09-28 - 公布日： 2020-11-03 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明提供一种在溅射靶的寿命全程中微粒产生个数较少的溅射靶。该溅射靶是Co为50～90at％、Ru为10～50at％、余量由杂质组成的溅射靶，其特征在于，在所述杂质中，氧超过10000wtppm，碳为50wtppm以下。
溅射

[发明专利]溅射靶-CN02143594.4有效
发明人：内海健太郎;原慎一;长崎裕一 -专利权人：东曹株式会社
申请日： 2002-10-11 - 公布日： 2003-04-23 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：提供在抽真空或开始溅射时及在溅射过程中不开裂的ITO溅射靶。尤其是没有上述开裂的、靶短轴是长轴的0.7倍－1.0倍的单片式ITO溅射靶或长度达宽度4倍以上的细长多段形ITO溅射靶。作为构成多段ITO溅射靶的ITO烧结体地采用威氏硬度为700以上－800以下，与在成为烧结体溅射面的面上进行的磨削加工的磨削方向平行地施加负荷而测定的3点抗弯强度为200兆帕以上－250兆帕以下的烧结体，接合ITO烧结体和衬板的焊剂层厚度为0.5毫米以上－1毫米以下地构成多段ITO溅射靶。在靶全长达宽度4倍以上的细长多段形ITO溅射靶中，两块烧结体以预定间隙邻接的分割部的所述间隙的宽度为0.4毫米以上－0.8毫米以下。
溅射

[发明专利]溅射靶-CN201880003494.5在审
发明人：塚田洋行;藤田昌宏;西冈宏司 -专利权人：住友化学株式会社
申请日： 2018-09-21 - 公布日： 2019-06-11 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明提供不易发生异常放电的溅射靶。溅射靶，其具有Lab颜色系统中的亮度L大于27且为51以下的溅射面。
溅射靶颜色系统异常放电溅射面

[外观设计]溅射靶-CN201730150716.4有效
发明人：田屋和美 -专利权人：株式会社爱发科
申请日： 2017-04-28 - 公布日： 2018-03-06 - 主分类号： 15-09 文献下载
摘要：1．本外观设计产品的名称溅射靶。2．本外观设计产品的用途本外观设计产品用作溅射靶，本外观产品为在溅射装置内作为用于在基板上成膜的成膜材料的溅射靶，通过具有向溅射装置的安装孔、冷却水路等，构成了还同时具有作为背衬板的功能的背衬板一体型的溅射靶
溅射

[外观设计]溅射靶-CN201730150719.8有效
发明人：田屋和美 -专利权人：株式会社爱发科
申请日： 2017-04-28 - 公布日： 2018-03-06 - 主分类号： 15-09 文献下载
摘要：1．本外观设计产品的名称溅射靶。2．本外观设计产品的用途本外观设计产品用作溅射靶，本外观产品为在溅射装置内作为用于在基板上成膜的成膜材料的溅射靶，通过具有向溅射装置的安装孔、冷却水路等，构成了还同时具有作为背衬板的功能的背衬板一体型的溅射靶
溅射

[外观设计]溅射靶-CN201730150946.0有效
发明人：田屋和美 -专利权人：株式会社爱发科
申请日： 2017-04-28 - 公布日： 2018-03-06 - 主分类号： 15-09 文献下载
摘要：1．本外观设计产品的名称溅射靶。2．本外观设计产品的用途本外观设计产品用作溅射靶，本外观产品为在溅射装置内作为用于在基板上成膜的成膜材料的溅射靶，通过具有向溅射装置的安装孔、冷却水路等，构成了还同时具有作为背衬板的功能的背衬板一体型的溅射靶
溅射

[外观设计]溅射靶-CN201730151196.9有效
发明人：田屋和美 -专利权人：株式会社爱发科
申请日： 2017-04-28 - 公布日： 2018-03-06 - 主分类号： 15-09 文献下载
摘要：1．本外观设计产品的名称溅射靶。2．本外观设计产品的用途本外观设计产品用作溅射靶，本外观产品为在溅射装置内作为用于在基板上成膜的成膜材料的溅射靶，通过具有向溅射装置的安装孔、冷却水路等，构成了还同时具有作为背衬板的功能的背衬板一体型的溅射靶
溅射

[发明专利]溅射靶-CN201680002410.7在审
发明人：杨兴波;德扬·斯托亚科维奇;马修·J·科梅尔茨;阿瑟·V·特斯塔尼罗 -专利权人：美题隆公司
申请日： 2016-05-13 - 公布日： 2017-08-18 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明公开了用于制造高纯度(>99.99％)低氧(<40ppm)溅射靶的方法，该溅射靶包含Co、CoFe、CoNi、CoMn、CoFeX(X＝B、C、Al)、Fe、FeNi或Ni的合金，并且具有由硼金属间化合物构成的柱状微观组织所述溅射靶通过以下方法制造，定向铸造所述金属合金的熔融混合物，退火以去除残余应力，切割并任选进行退火及精整，以获得所述溅射靶。
溅射

[发明专利]溅射靶-CN200880001823.9有效
发明人：古贺阳一;池东求 -专利权人：株式会社三井金属韩国
申请日： 2008-08-19 - 公布日： 2009-11-11 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明的目的在于，提供一种在由相互之间厚度不同的分割靶材构成的溅射靶中，能够容易地从各分割靶材的邻接部所形成的间隙中去除粘合材料的溅射靶。本发明的溅射靶是一种通过粘合材料，将由多个分割靶材构成的靶材与背板接合为一体的溅射靶，其特征在于，所述背板被形成为截面呈近似凸状，同时在所述分割靶材中的设置于所述溅射靶端部的端部分割靶材被形成为，截面呈近似
溅射

[发明专利]溅射靶-CN201580009968.3有效
发明人：荒川笃俊;森下优斗 -专利权人：捷客斯金属株式会社
申请日： 2015-06-16 - 公布日： 2018-08-31 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：一种溅射靶，其为含有以Co或Fe作为主要成分的合金以及包含Mn和B的氧化物的溅射靶，其特征在于，上述溅射靶的组成满足9原子％≤Mn+B+O≤56原子％、B≤Mn(原子％)、Mn+B≤O(原子％)的条件，能够抑制成为溅射时的粉粒产生的原因的由非磁性材料引起的异常放电。
溅射

[实用新型]溅射靶-CN202321405658.1有效
发明人：戴辉;李长东;王奎;王星星;尹士平 -专利权人：安徽光智科技有限公司
申请日： 2023-06-02 - 公布日： 2023-10-03 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：一种溅射靶包括溅射部，溅射部为上大下小的圆台形的回转体，溅射部的母线与溅射靶的轴线的夹角为17.5‑22.5°，溅射部的母线形成的曲面用作溅射面；溅射部用于伸入待镀膜的产品的内腔内以对产品的内表面进行溅射镀膜
溅射

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